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MLL系列

MLL-C500/C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精巧型光刻產品,廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與生產,光刻最小線寬600nm,套刻對準精度500 nm器件直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用。
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參數
1、產品介紹
MLL-C500/C900無掩膜直寫光刻設備是自主研發生產的一款精巧型光刻產品,廣泛應用多種微納光刻加工領域的研究與生產,光刻最小線寬600nm,套刻對準精度500 nm器件直寫光刻功能。適用于小批量、多品種的科研院所使用。

?      器件直寫光刻功能

?      3D結構曝光功能

?      掩膜版制作功能

?      背面對準功能

?      可視化定點對準曝光功能

?      快速、精細兩種曝光模式

?      多種數據輸入格式(GDS/ DXF/CIF/Gerber/ BMP/TIFF

?      基于Windows系統,用戶界面方便操作

 

2、技術規格

序號

項目

單位

MLL-C900

MLL-C500

1

最小線寬

nm

600

900

2

最高產能

mm2/min

250

150

3

套刻精度

3σ,nm

500

800

4

最大基板尺寸

Inch

8(可拓展)

6(可拓展)

5

線寬均勻性

3σ,nm

150

200

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
3、應用領域
 集成電路芯片
 掩模版
 MEMS芯片
 生物芯片
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